晶圓外延平面度測量，外延均勻度測量得力助手

文章出處：網責任編輯：作者：人氣：-發表時間：2024-04-08 22:09:00

晶圓制備包含了襯底制備和外延工藝兩大環節，外延（epitaxy）是指在單晶襯底上生長一層新單晶的過程，晶圓在未進行外延工藝之前都僅僅屬于基材，無法直接進行封裝等后續步驟。其中一項檢測外延厚度是否均勻的數據就是平面度，外延工藝會受到各種條件因素影響出現厚度不均的情況，如襯底溫度、反應腔氣壓、反應生長物及晶圓片表面清洗過程。如果外延厚度不均位于晶圓片表面制作晶體管器件的有源區域，將導致器件失效，所以晶圓在通過外延工藝制備后建議使用激光平面度測量儀對外延的厚度均勻性進行檢測。

海科思平面度測量儀配備精密花崗巖機座，開放式工作臺，方便取放工件，便于搭配自動化上下料系統可以更有效率的完成晶圓的平面度測量，該款測量儀可實現對平面的多點掃描或線掃描，一次性數據采集后通過軟件計算，實時給出平面度（平整度翹曲度）誤差測量判定，再一次提升晶圓平面度測量速度以及效率。激光平面度翹曲度測量儀的測量精度非常高，測量范圍內重復精度<5um，加上不受情緒以及怠工影響，該款測量設備稱得上是晶圓制備生產廠家的測量得力幫手。

多激光平面度測量儀